Transport in adatom-decorated graphene Erik Henriksen Jamie - - PowerPoint PPT Presentation
Transport in adatom-decorated graphene Erik Henriksen Jamie - - PowerPoint PPT Presentation
Transport in adatom-decorated graphene Erik Henriksen Jamie Elias Chandni U (and EAH) & J.P. Eisenstein Outline I. Mo.va.on topological physics
Outline ¡
I. ¡Mo.va.on ¡ ¡topological ¡physics ¡from ¡adatoms ¡on ¡graphene ¡ ¡ ¡ II. ¡Indium ¡atoms ¡on ¡graphene ¡(Caltech) ¡ ¡experimental ¡apparatus ¡for ¡in ¡situ ¡deposiCon ¡ ¡results ¡ ¡ ¡
- III. 5d ¡atoms ¡on ¡graphene ¡(Wash. ¡U.) ¡
¡ ¡2nd ¡generaCon ¡apparatus ¡ ¡ ¡iniCal ¡findings ¡ ¡
Graphene ¡
E ¡ kx ¡ ky ¡
K’ ¡ K ¡
Graphene ¡
B C D
Wang ¡et ¡al., ¡Science ¡342, ¡614 ¡(2013) ¡
Graphene ¡
Graphene ¡
(e2/h) Vg (V) Doping time 20 40 60 –80 –60 –40 –20 σ 20 0 s 6 s 12 s 18 s
Vg ¡ σ ¡( ¡e2/h ¡) ¡
Chen ¡et ¡al., ¡Nature ¡Phys ¡4, ¡377 ¡(2008) ¡ ¡also ¡Yan ¡& ¡Fuhrer, ¡PRL ¡107, ¡206601 ¡(2011) ¡
DeposiCon ¡of ¡K ¡atoms ¡
Schedin ¡et ¡al., ¡Nature ¡Materials ¡6, ¡652 ¡(2007) ¡
ρ ρ
~ ~
500 1,000 –4 –2 2 4 t (s) ∆ / (%)
I II III IV NH3 CO H2O NO2
b
Cme ¡(s) ¡ Δρ/ρ ¡(%) ¡
–40 –20 20 40 1 2 Vg (V) σ (kΩ–1)
Vg ¡ σ ¡( ¡kΩ-‑1 ¡) ¡
AdsorpCon ¡of ¡molecules ¡
fluorinated ¡and ¡fluoro-‑graphene ¡ graphane ¡ Nair ¡et ¡al., ¡Small ¡6, ¡2877 ¡(2010) ¡ Jeon ¡et ¡al., ¡ACS ¡Nano ¡5, ¡1042 ¡(2011) ¡ Hong ¡et ¡al., ¡PRB ¡83, ¡085410 ¡(2011) ¡ ¡ Sofo ¡et ¡al., ¡Phys. ¡Rev. ¡B ¡75, ¡153401 ¡(2007) ¡ Elias ¡et ¡al., ¡Science ¡323, ¡610 ¡(2009) ¡ ¡
Chemical ¡funcConalizaCon ¡
@ A H = ~˜ c @ ∆SO kx − iky kx + iky −∆SO 1 A
Kane ¡& ¡Mele, ¡Phys. ¡Rev. ¡Leg. ¡95, ¡226801 ¡(2005) ¡
Graphene ¡topological ¡insulator ¡
@ H = ~˜ c @ kx − iky kx + iky 1 A 1 E ¡ kx ¡ ky ¡ E = ~˜ c|k| E ¡ kx ¡ ky ¡ ESO = q (~˜ c|k|)2 + ∆2
SO
E ¡ kx ¡ ky ¡
Graphene ¡topological ¡insulator ¡
ESO = q (~˜ c|k|)2 + ∆2
SO
- 1
2π/a π/a E/t k 1
X
X
Kane ¡& ¡Mele, ¡Phys. ¡Rev. ¡Leg. ¡95, ¡226801 ¡(2005) ¡
@ A H = ~˜ c @ ∆SO kx − iky kx + iky −∆SO 1 A
–0.2 0.0 ky (Å–1) SS k = (0.8, ky, 2.9) = L ± δky L 0.0 –0.1 –0.2 –0.3 –0.4 EB (eV) 0.1 –0.5 0.2 ky kx 2
a b
Hsieh ¡et ¡al., ¡Nature ¡452, ¡970 ¡(2008) ¡
–1.0 –0.5 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 103 104 105 106 107
R14,23 / Ω
R14,23 / kΩ
G = 0.3 e2/h G = 0.01 e2/h T = 30 mK
–1.0 –0.5 0.0 0.5 1.0 5 10 15 20
G = 2 e2/h
G = 2 e2/h
T = 0.03 K
(Vg – Vthr) / V
(Vg – Vthr) / V
T = 1.8 K
König ¡et ¡al., ¡Science ¡318, ¡766 ¡(2007) ¡
Topological ¡insulators ¡
2D ¡ 3D ¡
Graphene ¡topological ¡insulator ¡
indium ¡ ¡ 7 ¡meV ¡gap ¡ thallium ¡ ¡ 21 ¡meV ¡gap ¡
Γ M K Γ 2 4 4 8
7 meV
6 Γ M K Γ 0 3 6
21 meV
Weeks ¡et ¡al., ¡PRX ¡1, ¡021001 ¡(2011) ¡
Graphene ¡topological ¡insulator ¡
Weeks ¡et ¡al., ¡PRX ¡1, ¡021001 ¡(2011) ¡ Hu ¡et ¡al., ¡PRL ¡109, ¡266801 ¡(2012) ¡ ¡
M K
- 2
- 1
1 2 ∆SO
Energy (eV)
(a)
8 0 1 2 3 4 5 6 7 0.1 0.2 0.3
Os Cu-Os
(eV)
Coverage (%)
(c)
with ¡5d ¡atoms ¡e.g. ¡osmium ¡
Outline ¡
I. ¡MoCvaCon ¡ ¡topological ¡physics ¡from ¡adatoms ¡on ¡graphene ¡ ¡ ¡ II. ¡Indium ¡atoms ¡on ¡graphene ¡ ¡ ¡experimental ¡apparatus ¡for ¡in ¡situ ¡deposi.on ¡ ¡results ¡ ¡ ¡
- III. 5d ¡atoms ¡on ¡graphene ¡ ¡
¡ ¡2nd ¡generaCon ¡apparatus ¡ ¡ ¡iniCal ¡findings ¡ ¡
In ¡situ ¡evaporaCon ¡
EvaporaCon ¡sources ¡
Indium ¡deposiCon ¡
Δn ¡≈ ¡4 ¡x ¡1012 ¡cm-‑2 ¡
Indium ¡deposiCon ¡
Indium ¡deposiCon ¡
Indium ¡deposiCon ¡
400 300 200 100 T ( K )
- 60 -40 -20
20 40 60 Vg ( V ) 1.5 1.0 0.5 G ( mS ) 450
Indium ¡deposiCon ¡
100 50 σ ( e
2 / h )
50
- 50
Vg ( V )
as made 0.08% In coverage 0.20% In coverage T = 12 K
Magnetoresistance ¡
– 0.08% In
- 2
- 1
1 2 RH ( kΩ / T )
- 2
- 1
1 2 density ( 10
- 12 cm
- 2 )
as made 0.08% In 1 / ne
- 1.0
- 0.5
0.5 Δρ / ρ0 8 6 4 2 B ( T )
n = 1.4 x 10
12 cm –2
solid – as made dashed – 0.08% In
Magnetoresistance ¡
n ( 10
12 cm –2 ):
0.6 0.4 0.2 Δρ / ρ0
- 2
- 1
1 2 B ( T )
as made
0.6 0.4 0.2 Δρ / ρ0
- 2
- 1
1 2 B ( T )
1
st In evap
± 0.7 ± 1.4 ± 2.8 ± 4.2 ± 5.6
electron-‑hole ¡puddle ¡ transport ¡in ¡EMA? ¡ ¡ Stroud ¡PRB ¡71, ¡201304 ¡ Das ¡Sarma ¡PRB ¡79, ¡245423 ¡
Weak ¡localizaCon ¡
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
12 K 50 K
a)
Clean sample
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
- 50
50 B (mT)
12 K 50 K
c)
In-decorated sample
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
b)
clean with In with more In
Adding indium
Weak ¡localizaCon ¡
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
12 K 50 K
a)
Clean sample
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
- 50
50 B (mT)
12 K 50 K
c)
In-decorated sample
1.0 0.5 Δσ (e
2/h)
b)
clean with In with more In
Adding indium
∆ = e2 ⇡h[F( B Bφ ) − F( B Bφ + 2Bi ) − 2F( B Bφ + Bi )] F(z) = ln(z) + (1 2 + 1 z ), Bφ,i = ~ 4De⌧ −1
φ,i
( modified ¡fit ¡based ¡on ¡McCann ¡et ¡al., ¡PRL ¡97, ¡146805 ¡(2006): ¡
0.8 0.6 0.4 0.2 Δσ (e
2/h)
- 20
- 10
10 20 B (mT)
clean with indium
a)
limit ¡to ¡fit: ¡ l2
µ < l2 B
Weak ¡localizaCon ¡
∆ = e2 ⇡h[F( B Bφ ) − F( B Bφ + 2Bi ) − 2F( B Bφ + Bi )] F(z) = ln(z) + (1 2 + 1 z ), Bφ,i = ~ 4De⌧ −1
φ,i
( modified ¡fit ¡based ¡on ¡McCann ¡et ¡al., ¡PRL ¡97, ¡146805 ¡(2006): ¡
10
- 13
10
- 12
10
- 11
Scattering time (sec) Temperature (K) 15 25 20 30
τφ τi τµ
b) B (mT)
0.8 0.6 0.4 0.2 Δσ (e
2/h)
- 20
- 10
10 20 B (mT)
clean with indium
a)
limit ¡to ¡fit: ¡ l2
µ < l2 B
Outline ¡
I. ¡MoCvaCon ¡ ¡topological ¡physics ¡from ¡adatoms ¡on ¡graphene ¡ ¡ ¡ II. ¡Indium ¡atoms ¡on ¡graphene ¡ ¡ ¡experimental ¡apparatus ¡for ¡in ¡situ ¡deposiCon ¡ ¡results ¡ ¡ ¡
- III. 5d ¡atoms ¡on ¡graphene ¡ ¡
¡ ¡2nd ¡genera.on ¡apparatus ¡ ¡ ¡ini.al ¡findings ¡ ¡
2nd ¡generaCon ¡evaporator ¡
Osmium ¡evaporaCon ¡sources ¡
tungsten ¡ annealed ¡tungsten ¡ coated ¡with ¡osmium ¡
g-‑BN ¡devices ¡
40 5 4 3 2 1 ρ ( kΩ / ! ) 40 20
- 20
- 40
Vg ( V )
5 4 3 2 1 ρ ( kΩ / ! ) 40 20
- 20
- 40
Vg ( V )
Osmium ¡deposiCon ¡
40 5 4 3 2 1 ρ ( kΩ / ! ) 40 20
- 20
- 40
Vg ( V )
Osmium ¡deposiCon ¡
5 4 3 2 1 ρ ( kΩ / ! ) 40 20
- 20
- 40
Vg ( V ) ( kΩ / )
Osmium ¡deposiCon ¡
Osmium ¡deposiCon ¡
150 100 50 σ ( e
2 / h )
40 20
- 20
- 40
Vg ( V )
Many ¡thanks ¡to: ¡ ¡ Caltech ¡ ¡Jason ¡Alicea ¡ ¡Keith ¡Schwab ¡ ¡Johannes ¡Pollanen ¡ ¡Debaleena ¡Nandi ¡ ¡KC ¡Fong ¡ ¡Ari ¡Weinstein ¡ ¡ ¡ ¡ ¡
The ¡end. ¡Thank ¡you! ¡
¡ ¡ Washington ¡University ¡ ¡Jordan ¡Russell ¡ ¡Nero ¡Zhou ¡ ¡Todd ¡Hardt ¡ ¡ ¡ Columbia ¡University ¡ ¡Cory ¡Dean ¡ ¡ Bard ¡College ¡ ¡Paul ¡Cadden-‑Zimansky ¡ Measurements: ¡ ¡Chandni ¡U, ¡EAH, ¡J.P. ¡Eisenstein ¡at ¡Caltech ¡ ¡ ¡ ¡arxiv: ¡1503.04191 ¡ ¡ ¡ ¡ ¡Jamie ¡Elias, ¡EAH ¡at ¡Washington ¡University ¡